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中華網(wǎng)財經(jīng)7月29日訊，南大光電發(fā)布公告稱(chēng)，公司承擔的國家科技重大專(zhuān)項（02專(zhuān)項）“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”之“先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)與產(chǎn)業(yè)化”項目，今日收到項目綜合績(jì)效評價(jià)結論書(shū)，項目通過(guò)了專(zhuān)家組驗收。

南大光電表示，ArF光刻膠材料是集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技術(shù)節點(diǎn)的集成電路制造工藝，廣泛應用于高端芯片制造（如邏輯芯片、存儲芯片、AI芯片、5G芯片和云計算芯片等）。

長(cháng)期以來(lái)，國內高端光刻膠市場(chǎng)長(cháng)期為國外巨頭所壟斷，對我國芯片制造具有“卡脖子”風(fēng)險。盡快實(shí)現先進(jìn)光刻膠材料的全面國產(chǎn)化和產(chǎn)業(yè)化具有十分重要的戰略意義和經(jīng)濟價(jià)值。本項目研發(fā)任務(wù)的圓滿(mǎn)完成，預計將對公司光刻膠事業(yè)的未來(lái)發(fā)展產(chǎn)生積極影響。

要注意的是，公司目前的ArF光刻膠產(chǎn)品尚未實(shí)現規?；慨a(chǎn)。ArF光刻膠的復雜性決定了其在穩定量產(chǎn)階段仍然存在工藝上的諸多風(fēng)險，不僅需要技術(shù)攻關(guān)，還需要在應用中進(jìn)行工藝的改進(jìn)、完善。同時(shí)，ArF光刻膠產(chǎn)品國產(chǎn)化替代受品質(zhì)、客戶(hù)的嚴格要求，后續是否能取得下游客戶(hù)的大批量訂單，能否大規模進(jìn)入市場(chǎng)仍存在較多的不確定性。這些都會(huì )影響ArF光刻膠的量產(chǎn)規模和經(jīng)濟效益。敬請廣大投資者注意投資風(fēng)險。

資料顯示，南大光電是主要從事先進(jìn)前驅體材料、電子特氣、光刻膠及配套材料三類(lèi)半導體材料產(chǎn)品生產(chǎn)、研發(fā)和銷(xiāo)售的高新技術(shù)企業(yè)。

值得一提的是，光刻膠及配套材料是光刻工藝中的關(guān)鍵材料，主要應用于集成電路和半導體分立器件的細微圖形加工。高端光刻膠是集成電路實(shí)現28nm、14nm乃至10nm以下制程的關(guān)鍵。

長(cháng)期以來(lái)，全球高端光刻膠市場(chǎng)被以日本合成橡膠、東京應化、信越化學(xué)、富士電子材料等為代表的國外技術(shù)壟斷。

而在我國，高端光刻膠領(lǐng)域仍有大量品種短缺或空白，因此，高端光刻膠技術(shù)成為了我國芯片制造的“卡脖子”難題，相關(guān)領(lǐng)域進(jìn)口替代需求緊迫。

光刻工序是集成電路制造中重要的一環(huán)，是將設計好的集成電路圖形由掩膜版轉移至硅片后再進(jìn)行下一步刻蝕的工藝，是集成電路制造中耗時(shí)大、難度高的工藝。光刻時(shí)會(huì )在硅片上涂一層光刻膠，經(jīng)紫外線(xiàn)曝光后，光刻膠化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，再經(jīng)顯影后將曝光的光刻膠去除，實(shí)現圖形從掩膜版到硅片的轉移。光刻膠作為光刻環(huán)節的重要耗材，其質(zhì)量和性能直接影響集成電路制造產(chǎn)線(xiàn)良率，是集成電路制造的核心材料之一。

按照應用領(lǐng)域的不同，光刻膠又可以分為印刷電路板（PCB）用光刻膠、液晶顯示（LCD）用光刻膠、半導體用光刻膠和其他用途光刻膠。PCB光刻膠和LCD光刻膠技術(shù)壁壘相對較低，國產(chǎn)化率較高，而半導江蘇南大光電材料股份有限公司2020年年度報告摘要5體光刻膠代表著(zhù)光刻膠技術(shù)先進(jìn)水平，尤其是高端光刻膠，目前國內公司量產(chǎn)層面近乎空白。

我國企業(yè)也在積極研發(fā)高端光刻膠產(chǎn)品，以打破國外壟斷，實(shí)現光刻膠的進(jìn)口替代。國內從事高端光刻膠研發(fā)和生產(chǎn)的公司主要有南大光電、上海新陽(yáng)、晶瑞股份、北京科華等。

近期，我們可以看到，A股的光刻膠板塊備受資金追捧，截至7月29日收盤(pán)，光刻膠板塊當天更是大漲，南大光電、容大感光等個(gè)股漲停，更有多支個(gè)股漲超10%。自5月27日以來(lái)，南大光電兩個(gè)月漲幅近150%，可謂是“瀟灑”。